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英特尔、美光推3DXPoint存储技术三星、SK海力士紧张

本文摘要:英特尔(Intel)与美光(Micron)日前公开发表速度比NANDFlash慢1,000倍的3DXPoint存储器技术,并宣告将在2016年中开始量产,在存储器半导体业界投下震撼弹。 据韩国经济报导,英特尔与美光称之为3DXPoint技术为存储器技术的大突破,是自1989年NANDFlash发售后,25年来的第一个全新存储器类别。美光总裁MarkAdams回应,这项技术将在NANDFlash与DRAM合计785亿美元规模的存储器芯片市场,引起破坏性的革命。

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英特尔(Intel)与美光(Micron)日前公开发表速度比NANDFlash慢1,000倍的3DXPoint存储器技术,并宣告将在2016年中开始量产,在存储器半导体业界投下震撼弹。  据韩国经济报导,英特尔与美光称之为3DXPoint技术为存储器技术的大突破,是自1989年NANDFlash发售后,25年来的第一个全新存储器类别。美光总裁MarkAdams回应,这项技术将在NANDFlash与DRAM合计785亿美元规模的存储器芯片市场,引起破坏性的革命。

  3DXPoint存储器芯片与NANDFlash同归属于非挥发性存储器,意即在装置电源重开的情况下,仍能留存记忆内容。但3DXPoint速度比NANDFlash慢1,000倍,寿命也比NANDFlash更加长久。

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  英特尔与美光经过10年研发,再一利用类似材料找到解决方案。应用于3DXPoint技术的存储器芯片,可在可观数据中找到相同模式,能应用于在语音识别、观测金融诈骗模式,以及遗传基因研究等领域。  据市调机构IDC调查,2013年全球生产量的资料量为4ZB,而预估到了2020年将茁壮10倍以上约44ZB。英特尔研究员CharlesBrown在展开技术概述时回应,资料用量与日具增,市场也越来越渴望打破DRAM与NAND的新存储器半导体需要问世。

  另一方面,全球存储器半导体市场前两大业者三星电子(SamsungElectronics)与SK海力士(SKHynix)也正在研发电阻式存储器(ResistiveRandom-AccessMemory;RRAM)等类似于的非挥发性存储器,据理解目前还没有超过能低廉量产的阶段,重新加入下一代半导体市场战局的时机难道要等到2018年以后,也因此对于新技术的公开发表更为紧绷。  目前美光虽然在存储器半导体市场上名列第三,却有可能靠着新材料技术的研发在短期内反败为胜局势。业界人士回应,因为美光并非单打独斗,而是与世界第一大系统半导体业者构成联军,也让其他业者的压力更加沈重。

  若三星与SK海力士马上发售不足以媲美的新技术,未来市场主导权就不会落在对方手上,就看英特尔与美光需要多慢让下一代半导体普及市场?产品单价又需要跌落多较低?  英特尔有关人士特别强调,3DXPoint技术早已已完成量产打算,而非刚开始研发而已。2015年将获取样品给客户企业,2016年就不会在美国犹他工厂开始量产。南韩业界人士回应,若知道从2016年开始量产并供应产品,势必会对南韩业者产生一定程度的压制。


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